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Guang hui stoves center深圳市海祺電子科技有限公司
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工藝流程:
A. Flash Gold板
浸酸→鍍銅→水洗→水洗
上板→除油→水洗→水洗→微蝕→水洗→ 浸酸→鍍銅→水洗→水洗→浸酸→DI水洗→鍍鎳→DI水洗→DI水洗→DI水洗→鍍金→DI水洗→DI水洗→下板
B. Bonding Gold
Bonding Gold板流程不鍍銅或鍍薄銅其余與Flash Gold板相同.
3 .各藥水缸成份、濃度及生產(chǎn)條件:
①除油缸:AR H2SO4:4-6%(V/V); LP-200除油劑:4-6%(V/V);操作溫度: 35±5℃
②微蝕缸:NPS :40-60g/l ; AR H2SO4 :1-3%(V/V);操作溫度:30±2℃; Cu2+<25g/l
③鍍Cu前H2SO4 :H2SO4 (AR):11-13%(V/V);操作溫度:室溫
④Cu缸:CuSO4.5H2O:60-70g/l;AR H2SO4:11-13%(V/V);Cl-:40-60PPM;
CP光劑;控制溫度:27±3℃
⑤鍍Ni前H2SO4缸: AR H2SO4 :9-11%;控制溫度:室溫
⑥Ni缸:銨基磺酸鎳:280-320g/l;NiCl2:10-20g/l;H3BO3:40-50g/l ;PH :3.8-4.5;另加光劑及防針孔劑;控制溫度:52±3℃
⑦Au缸:Au:0.5-1g/l ;SG:6.5-7.5;PH:3.8-4.2;控制溫度:室溫
4.各藥水缸的功能:
① 除油缸:除去板面上附著污漬以及微量氧化,露出新鮮晶粒,為線路圖形電鍍提供一個(gè)干凈的相界面.
② 微蝕缸:除去板面的氧化層,加強(qiáng)銅面的粗糙度,為圖形電鍍銅提供良好相界面,使兩層銅之間結(jié)合致密.
③ 銅缸:在已做好的線路圖形上鍍上銅
④ Ni缸:在已鍍好銅線路的基礎(chǔ)上再鍍上一層鎳,為下工序鍍金提供良好界面
⑤ 金缸:在已鍍好銅、鎳的線路上再鍍上一層金,增強(qiáng)線路的電性能。
5.電鍍原理:
①銅缸:陽極:Cu-2e=Cu2+ 陰極:Cu2++2e=Cu
②鎳缸:陽極:Ni-2e=Ni2+ 陰極:Ni2++2e=Ni
③金缸:陽極:Au++e=Au 陰極:4OH--4e=2H2O+O2
二、蝕板:
1.蝕板目的:
圖形電鍍在有底銅及板電銅的板形成,那么在圖形電鍍完成之前,這部分銅是被菲林所遮蓋,在圖形電鍍完成之后,這部分銅就必需先退掉菲林,近而將這部分銅去掉,蝕刻就是完成這一功能的工序。
2.工藝流程:
手浸退膜→水洗→水洗→二級(jí)流動(dòng)水洗→蝕刻→氨水洗→鹽酸洗→二級(jí)水洗→清水洗→熱風(fēng)吹干
3.各工序藥水成份及控制條件:
1)手浸退膜:抗氧化劑,工業(yè)級(jí)KOH:30-50g/l;控制溫度:40-60℃,1-3min
2)蝕刻液:子液由NH4CL及HCL組成,蝕刻液成份:Cu2+,130-140g/l,CL-:4.8-5.3N;PH:8.6-8.9;SG:1.181-1.185g/cm3;壓力:1.5-2Kg/cm2
3)鹽酸洗:HCl依MEI開缸方法控制
4)氨水洗:NH3. H2O(工業(yè)級(jí))依MEI開缸方法控制
5)密集線路(一般成品線粗/線隙要求4mil/4mil以下)的板用RR-2退膜,RR-2退膜液:10-13%(V/V)抗氧化劑依MEI開缸方法添加.
4.蝕刻原理:
air.NH3Cl-
Cu+Cu2+ 2Cu+ 2Cu2+ (1)
Cu+Cu(NH3)42+ 2Cu(NH3)2+ 2Cu(NH3)42+ (2)
Cu+Cu(NH3)42++2Cl_ 2Cu(NH3)2++2Cl_ 2Cu(NH3)42++CL_ (3)
StepⅠrate → fast stepⅡrate → slower
Air determination
H2O+2Cu++O2 2Cu2++2OH_ (4)
Half reaction:
Cu+ Cu2++e oxidation (5)
4NH3
H2O+O2+2e 2OH_ reduction (6)
Cl_
H2O+2Cu(NH3)2++O2 2Cu(NH3)42++2OH_ (7)
This orerall
三、常見問題產(chǎn)生原因及處理方法:
1.金面發(fā)紅氧化
①蝕刻液參數(shù)不穩(wěn)定
a.比重太高或太低
b.PH太高或太低
②電鍍鎳金不良
a.鍍金太薄
①開拉前分析藥水,并根據(jù)結(jié)果調(diào)整至最佳控制范圍
②依板面鍍金控制
2.甩金
①蝕刻因子小,側(cè)蝕過大
a.蝕刻液溫度偏高
b.蝕刻液PH值偏高,比重偏低
c蝕板壓力過大
d蝕板速度太慢
②鍍Ni太薄
①測量蝕刻因子
a開啟冷水循環(huán)冷卻
b調(diào)節(jié)PH值,加蝕銅板,增加比重
c調(diào)節(jié)蝕刻液噴淋壓力
d調(diào)節(jié)行板速度
②延長鍍鎳時(shí)間或增大鍍鎳電流,依FA電流紙
3.短路(蝕板不凈)
①蝕刻效果差
a蝕板藥水超出控制范圍
b噴咀堵塞或管漏水
c機(jī)速過快
d壓力過小
②電鍍銅太厚
a.返工板鍍銅過厚
b.板面銅厚太厚
c.板面不均勻
①改善蝕刻效果
a按MEI要求控制
b清除維修或更換
c降低行速
d調(diào)節(jié)壓力至適中
②依板面電鍍控制
a.控制蝕刻參數(shù)
b.依板面電鍍控制
c.手浸翻蝕
4.水漬
①鍍Cu前處理不干凈:除油缸、微蝕缸、H2SO4缸
a.換缸周期過長
b.溫度偏低
c.藥液各成份含量偏低
②銅缸光劑成份不穩(wěn)定
③鍍金后水洗缸污水污染
a.及時(shí)更換
b.升高溫度
c.及時(shí)補(bǔ)充藥液成份保持含量穩(wěn)定
②按生產(chǎn)尺數(shù)添加
③每天更換一次金缸后DI水洗
5.線路針孔/金手指針孔
① 銅缸鎳缸打氣不均勻
a.打氣管脫出卡碼
b. 搖擺幅度變小
c. 打氣管堵塞
② 銅缸過濾泵漏氣
a.管道連接處沒擰緊
b.管路連接松脫
③銅缸鎳缸電流過大
① 開拉前,檢查打氣,搖擺是否正常再開拉
② 開拉前,檢查過濾是否正常再開拉
③ 根據(jù)電流紙并實(shí)測實(shí)際電流
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